Novellus 家族产品

Novellus 制造，销售并服务用于薄膜沉积、表面处理以及化学机械研磨 (CMP) 的高级半导体制造器件。我们的化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）、电化沉积（ECD）、紫外热处理（UVTP）、光刻胶和残留物清除以及化学机械研磨系统(CMP)以最低总成本批量生产高级半导体器件，在世界上得到了广泛应用。

我们邀请您了解更多Novellus在化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、电化沉积(ECD)、紫外热处理(UVTP)、表面处理以及化学机械研磨(CMP)方面的创新。制造商使用我们的化学气相沉积(CVD) 工艺来沉积绝缘薄膜（绝缘体）以及导电薄膜（金属）。物理气相沉积(PVD)工艺使用高级溅射技术把一个极薄的金属膜涂在晶圆表面。我们电化沉积(ECD) 系统中晶圆夹具和场成形元件应用了高级化学工艺及创新，这使Novellus电镀铜设备所产生的电化沉积膜性能出众。我们的紫外热处理技术使我们的用户提高了等离子增强化学气相沉积（PECVD）薄膜的机械性能。我们的表面完整性产品组提供了制造高级器件所需的剥落及清洗技术，而我们的化学机械研磨(CMP)产品组在下一道沉积工序前将表面整平。

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