Novellus的产品

Novellus系统设计、制造并服务于用在半导体器件或芯片产品的生产设备上。 我们的化学气相沉积 （CVD）、物理气相沉积 （PVD）、电化沉积 （ECD）、化学机械研磨 （CMP) 以及表面处理系统以最低总成本批量生产高级半导体器件给我们的用户，在世界上得到了广泛应用。

半导体器件制造商使用我们的一些化学气相沉积系统，通过等离子增强化学气相沉积工艺 (PECVD) 或者是高密度等离子化学气相沉积工艺 (HDP CVD) 来沉积被称为绝缘体的绝缘物质薄膜。 某些用于超高性能器件的特定类型的绝缘薄膜可能需要一道后沉积处理 (UVTP，紫外热处理)。 我们也生产用于沉积可导电钨膜 (W-CVD) 的化学气相沉积系统。 Novellus也提供用在使用导电金属铝的芯片上沉积铝层的物理气相沉积系统 (PVD)，该系统还能在使用铜线的芯片上沉积铜阻挡层/晶种层。 我们的电化沉积 (ECD) 产品用来在使用铜的芯片上制造铜线，而我们的化学机械研磨 (CMP) 系统产品是用来打磨晶圆表面以使它平整。 最后，我们的表面处理是用来清洗生产制造过程各工序间的晶圆，除去残留物以及污染物。